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昭和电工于2015年4月21日宣布，将强化高纯度氟化氢(HF)的生产体制。在增强现有设备的同时，还将在中国建设新设备，满足半导体制造工序中不断扩大的应用需求。
高纯度HF在半导体制造工序中的主要用途是，去除CVD(化学气相沉积)炉上附着的不需要的化学物质。近年来，高纯度HF还被广泛应用于名为“化学氧化物去除处理”(Chemical Oxide Removal：COR)的干蚀刻工序。COR与利用以往药剂的湿蚀刻相比生产效率更加出色，而且其成本比等离子体蚀刻更低，因此作为新型微细化蚀刻工艺备受关注。伴随这一趋势，该工序使用的高纯度HF的需求也在不断扩大，因此昭和电工决定强化生产。
在此次的体制强化中，昭和电工已于2015年3月将川崎事业所(川崎市)已有设备的产能提高了一倍。此外还将在其全资子公司——上海昭和电子化学材料有限公司内新建生产设备，以满足中国市场的需求。新设备计划2015年4月开工建设，年内投入运转。按计划，新设备的产能与川崎事业所为同等规模。
编辑：Lemon
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